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日本filmetrics膜厚測量系統

產品時間:2025-05-14

訪問次數:986

簡要描述:

日本filmetrics膜厚測量系統F20
一種行業標準、低價、多功能的臺式薄膜厚度測量系統,已在全球安裝了 5,000 多臺。它可用于從研發到制造現場在線測量的廣泛應用。
F20基于光學干涉法可在1秒左右輕松測量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系數。

日本filmetrics膜厚測量系統F20

1

主要特點

 

  • 支持廣泛的膜厚范圍(1 nm 至 250 μm)

  • 支持寬波長范圍(190nm 至 1700nm)

  • 強大的膜厚分析

  • 光學常數分析(折射率/消光系數)

  • 緊湊的外殼

  • 支持在線測量

一種行業標準、低價、多功能的臺式薄膜厚度測量系統,已在全球安裝了 5,000 多臺。它可用于從研發到制造現場在線測量的廣泛應用。
F20基于光學干涉法可在1秒左右輕松測量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系數。
它還支持多點在線測量,并支持RS-232C和TCP/IP等外部通訊,因此可以通過PLC或上位機進行控制。

主要應用

平板半導體光學鍍膜薄膜太陽能電池醫療的
單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、
各種光學膜等。
抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
防反射膜、硬涂層等
CdTe、CIGS、非晶硅等
砷化鋁鎵(AlGaAs)、磷化鎵(GaP)等
鈍化、藥物涂層等

產品陣容

模型F20-UVF20F20-近紅外F20-EXRF20-UVX測量波長范圍膜厚測量范圍性*測量光斑直徑光源





190 – 1100nm380 – 1050nm950 – 1700nm380 – 1700nm190 – 1700nm
1nm – 40μm15nm – 70μm100nm – 250μm15nm – 250μm1nm – 250μm
± 0.2% 薄膜厚度± 0.4% 薄膜厚度± 0.2% 薄膜厚度
1納米2納米3納米2納米1納米
支持高達1.5 毫米或 0.5 毫米
小 0.1 毫米(可選)

氘·

鹵素

鹵素

氘·

鹵素

* Filmometry 提供的測量 Si 基板上的 SiO2 膜時器件主體的精度。

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